હાઇડ્રોજન સલ્ફાઇડ ઉપરાંત, પેટ્રોલિયમ ક્રેકીંગ ગેસમાં સામાન્ય રીતે ચોક્કસ માત્રામાં કાર્બનિક સલ્ફર હોય છે. સલ્ફરનું પ્રમાણ ઘટાડવાની ચાવી એ છે કે કાચા ગેસમાંથી સલ્ફર આલ્કોહોલ અને હાઇડ્રોજન સલ્ફાઇડને અસરકારક રીતે દૂર કરવામાં આવે. મોલેક્યુલર ચાળણીનો ઉપયોગ કેટલાક સલ્ફર ધરાવતા સંયોજનોને શોષવા માટે કરી શકાય છે. શોષણ સિદ્ધાંતમાં મુખ્યત્વે બે પાસાઓનો સમાવેશ થાય છે:
૧- આકાર પસંદગી અને શોષણ. મોલેક્યુલર ચાળણી રચનામાં ઘણી સમાન છિદ્ર ચેનલો છે, જે માત્ર એક વિશાળ આંતરિક સપાટી વિસ્તાર જ પ્રદાન કરતી નથી, પરંતુ મોટા છિદ્ર પ્રવેશ સાથે પરમાણુઓના પ્રમાણને પણ મર્યાદિત કરે છે.
2- ધ્રુવીય શોષણ, આયન જાળીની લાક્ષણિકતાઓને કારણે, આણ્વિક ચાળણીની સપાટી ઉચ્ચ ધ્રુવીયતા ધરાવે છે, આમ અસંતૃપ્ત અણુઓ, ધ્રુવીય અણુઓ અને સરળતાથી ધ્રુવીકૃત અણુઓ માટે ઉચ્ચ શોષણ ક્ષમતા ધરાવે છે. આણ્વિક ચાળણીનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે કુદરતી ગેસમાંથી થિઓલ દૂર કરવા માટે થાય છે. COS ની નબળી ધ્રુવીયતાને કારણે, CO ની આણ્વિક રચના જેવી જ છે.2, CO ની હાજરીમાં મોલેક્યુલર ચાળણી પર શોષણ વચ્ચે સ્પર્ધા છે2. પ્રક્રિયાને સરળ બનાવવા અને સાધનોના રોકાણને ઘટાડવા માટે, મોલેક્યુલર ચાળણી શોષણ સલ્ફેટનો ઉપયોગ સામાન્ય રીતે મોલેક્યુલર ચાળણી નિર્જલીકરણ સાથે કરવામાં આવે છે.
JZ-ZMS3, JZ-ZMS4, JZ-ZMS5 અને JZ-ZMS9 મોલેક્યુલર ચાળણીનું છિદ્ર 0.3nm, 0.4nm, 0.5nm અને 0.9nm છે. એવું જાણવા મળ્યું કે JZ-ZMS3 મોલેક્યુલર ચાળણી ભાગ્યે જ થિયોલ શોષી લે છે, JZ-ZMS4 મોલેક્યુલર ચાળણી નાની ક્ષમતાને શોષી લે છે અને JZ-ZMS9 મોલેક્યુલર ચાળણી થિયોલને મજબૂત રીતે શોષી લે છે. પરિણામો દર્શાવે છે કે છિદ્ર વધતાં શોષણ ક્ષમતા અને શોષણ ગુણધર્મો વધે છે.
સંબંધિત વસ્તુઓ:JZ-ZMS9 મોલેક્યુલર ચાળણી; JZ-ZHS મોલેક્યુલર ચાળણી